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蒸鍍濺鍍優缺點:
蒸鍍濺鍍優缺點:
- 濺鍍優點:
濺鍍對於真空的要求並不如蒸鍍來的高，機體容量較小，容易實現連續化的製程，膜層的附著性也較優。
- 濺鍍缺點:
設備及靶材單價較高、氧化物及氟化物材料較難做成高品質靶材，故材料選擇性較少、氧化物及氟化物靶材鍍膜時間較長、曲面工件鍍膜均勻性較差，故濺鍍在鍍多層膜結構時其優勢不如蒸鍍。
- 蒸鍍優點:
設備單價較便宜、鍍膜速度較快，氧化物及氟化物鍍膜材料較便宜、曲面工件鍍膜均勻性較好，鍍多層膜純度較佳。可大面積成長薄膜，且腔體多設計為可容納多片基板，故具有高度的產出效率。透過石英震盪片(Quartz crystal)可精準的監控薄膜沉積厚度與鍍率，也可於設備中裝入多個坩堝，可於不破真空下連續成長多層金屬薄膜。系統設計簡單，容易維護，是產業界成長光學薄膜、透明導電膜等生產使用。
- 蒸鍍缺點:
真空度較高的要求，設備機體較大，且抽真空的時間較長，膜層結構附著性較差。
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