氟化物蒸鍍材料Fluoride Materials
- 氟化物蒸鍍材料
氟化鏑 (DyF3)、氟化鋇 (BaF2) 、氟化鐿 (YbF3)、氟化鎂 (MgF2)、氟化釔 (YF3)..等.
氟化物-蒸鍍材料
氟化物材料特性:
依電阻率、折射率和熱膨脹係數差異，運用在光學領域。材料蒸鍍或濺鍍後，產生高折射率或低折射率的薄膜，膜層結構的設計呈現不同光譜性質。多數氟化物薄膜材料的熔點都比較低，氟化物薄膜的折射率一般也都比較低.，所以常用作減反射膜.氟化物薄膜材料的另一個特點是它們從紫外到紅外都具有高度的透明性(CeF3除外,其透明波段為300nm到5μm)，因此其在紫外區的應用也具有特別的價值.除特殊工藝製備的氟化物薄膜之外，其薄膜的機械強度均較差，且耐潮性能也不好(加高溫鍍制的MgF2除外).
氟化鎂MgF2:
光學薄膜設計應用在抗反射(AR Coating)光譜，為低折射率光學材料。氟化鎂適用於製鍍增透膜，分光膜，多層膜，其化學特性穩定，加熱不會分解，即使強電解也很難分離，且不溶於水，在紅外光及可見光區是透明的。主要用於高階鏡片及高光學要求產品，例如濾光片和單眼相機鏡片。
氟化鎂 |  |
分子式 | MgF2 |
CAS編號 | 7783-40-6 |
密度 (g/cm3) | 3.2 |
蒸發溫度 (℃) | 1,300-1,600 |
折射率 (n, @550nm) | 1.38 |
透光範圍 | 120nm - 7μm |
氟化鋇 |  |
分子式 | BaF2 |
CAS編號 | 7787-32-8 |
密度 (g/cm3) | 4.9 |
蒸發溫度 (℃) | 1,400-1,600 |
折射率 (n, @550nm) | 1.5 |
透光範圍 | 250nm - 15μm |
氟化鐿 |  |
分子式 | YbF3 |
CAS編號 | 13760-80-0 |
密度 (g/cm3) | 8.2 |
蒸發溫度 (℃) | 1,400-1,600 |
折射率 (n, @550nm) | 1.54 |
透光範圍 | 200nm - 12μm |
氟化釔 |  |
分子式 | YF3 |
CAS編號 | 13709-49-4 |
密度 (g/cm3) | 4.8 |
蒸發溫度 (℃) | 1,200-1,400 |
折射率 (n, @550nm) | 1.54 |
透光範圍 | 190nm - 12μm |
光學薄膜設計應用 | 蒸鍍材料建議 |
抗反射(AR Coating) | 氟化鎂(MgF2) |
紅外截止(IR Cut) | 氧化鋁(Al2O3) |
紅外穿透(IR Pass) | 氧化鋯(ZrO2) |
紫外截止(UV Cut) | 氧化鈦系(TiO2, Ti3O5) |
窄波(Band Pass) | 氧化鉭(Ta2O5) |
長波通(Long Pass) | 氧化矽系(SiO2) |
短波通(Short Pass) | 銀(Ag) |
多波段(Multi band) | 鍺(Ge) |
雙窄波(Dule band Pass) | 鋁(Al) |
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