氧化物蒸鍍材料Oxide Materials

規格:
  • 氧化物蒸鍍材料

材料種類:

  • 三氧化二鈦 (Ti2O3)、氧化鉻 (Cr2O3)、五氧化二鈮 (Nb2O5) 、一氧化鈦 (TiO) 、二氧化鈰 (CeO2)、氧化鋁 (Al2O3)、一氧化矽 (SiO)、氧化釔 (Y2O3)、二氧化矽 (SiO2)、五氧化三鈦 (Ti3O5)、二氧化鋯 (ZrO2)、五氧化二鉭 (Ta2O5)、二氧化鈦 (TiO2)、氧化鉿 (HfO2)..等.

氧化物-蒸鍍材料

氧化物蒸鍍材料,依電阻率、折射率和熱膨脹係數差異,運用在光學領域。材料蒸鍍後的膜層結構設計呈現不同光譜性質,如二氧化矽SiO2,為低折射率光學材料,光學薄膜設計應用在長波通(Long Pass)光譜 ; 以及二氧化鈦TiO2,為高折射率光學材料,光學薄膜設計應用在紫外截止(UV Cut)光譜。

二氧化矽

分子式

SiO2

CAS編號

7631-86-9

密度 (g/cm3)

2.2

蒸發溫度 (℃)

1,800-2,200

折射率 (n, @550nm)

1.46

透光範圍

200nm - 2μm

 

氧化鋁

分子式

Al2O3

CAS編號

1344-28-1

密度 (g/cm3)

3.94

蒸發溫度 (℃)

2,000-2,200

折射率 (n, @550nm)

1.64

透光範圍

200nm - 5μm

 

一氧化矽

分子式

SiO

CAS編號

10097-28-6

密度 (g/cm3)

2.1

蒸發溫度 (℃)

1,200-1,600

折射率 (n, @550nm)

1.46-1.7

透光範圍

800nm - 9μm (SiO)

 

380nm - 9μm (Si2O3)

 

190nm - 9μm (SiO2)

 

氧化釔

分子式

Y2O3

CAS編號

1314-36-9

密度 (g/cm3)

5.0

蒸發溫度 (℃)

2,300-2,500

折射率 (n, @550nm)

~1.85

透光範圍

250nm - 12μm

 

五氧化三鈦

分子式

Ti3O5

CAS編號

12065-65-5

密度 (g/cm3)

4.6

蒸發溫度 (℃)

1,500-2,000

折射率 (n, @550nm)

2.4

透光範圍

400nm - 12μm

 

二氧化鋯

分子式

ZrO2

CAS編號

1314-23-4

密度 (g/cm3)

5.6

蒸發溫度 (℃)

2,400-2,600

折射率 (n, @550nm)

2.1

透光範圍

300nm - 7μm

 

五氧化二鉭

分子式

Ta2O5

CAS編號

1314-61-0

密度 (g/cm3)

8.3

蒸發溫度 (℃)

2,000-2,200

折射率 (n, @550nm)

2.17

透光範圍

300nm - 7μm

 

氧化鈮:

氧化鈮是一個化學術語,是鈮的多種氧化物的總稱,包含一氧化鈮、二氧化鈮、三氧化二鈮、五氧化二鈮.

一氧化鈮

亦稱“二氧化二鈮”,化學式NbO或Nb2O2,分子量 108.91。有金屬光澤的黑色立方晶體,有良好的金屬型導電性。相對密度7.30。

二氧化鈮

化學式NbO2,分子量124.90。黑色粉末。相對密度5.9。溶於熱堿溶液,不溶于水和硝酸等無機酸及乙醇。

三氧化二鈮

化學式 Nb2O3,分子量233.81,藍黑色固體,熔點1780℃。

五氧化二鈮

化學式Nb2O5,分子量265.81,白色晶體,熔點1460℃,相對密度4.47,相對介電常數35-50,帶隙3.4eV。受熱至400℃顏色變黃。

 

光學薄膜設計應用

蒸鍍材料建議

抗反射(AR Coating)

氟化鎂(MgF2)

紅外截止(IR Cut)

氧化鋁(Al2O3)

紅外穿透(IR Pass)

氧化鋯(ZrO2)

紫外截止(UV Cut)

氧化鈦系(TiO2, Ti3O5)

窄波(Band Pass)

氧化鉭(Ta2O5)

長波通(Long Pass)

氧化矽系(SiO2)

短波通(Short Pass)

銀(Ag)

多波段(Multi band)

鍺(Ge)

雙窄波(Dule band Pass)

鋁(Al)

 

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蒸鍍材料-熱蒸鍍及電子束蒸鍍: