旋轉濺鍍靶材Rotary Si target

多晶矽旋轉靶材生產流程：

矽胚：採用拉晶製造流程

原料來源	矽胚加工
拉晶5N多晶矽棒	棒鑽孔研磨

矽胚成品	管狀矽靶成品
OD100~170*ID80~150*L1200mm	高温焊料(高功率濺鍍15kw/米) 同心度0.3/間隙0.2-0.3且均勻/結合率99%以上

註：亦可設計兩端狗骨頭型式，使其靶材使用率提升。
 

• 目前業界-噴塗矽靶使用缺點問題分析：

噴塗式矽旋轉靶，可能缺點問題如下：

a.濺鍍時程短：

生產平均5000kw時數,靶材需做PM拋磨結瘤點,避免Arc及玻璃塵點良率問題。

b.良率不佳：

目前玻璃塵點(亮點)良率:依據目前各家規範目前生產良率為70-80%。

c.裂靶：

使用過程需注意功率曲線,避免發生裂靶狀況。

d.ARC：

電阻率過高造成需更高電壓才能濺射,又因高電壓易造成Arc問題。

e.膜厚不均：

靶材本身電阻率分佈不均影響濺鍍鍍率不穩定,造成玻璃各區膜厚不均問題。

f.靶材純度不足：

因解決靶材電阻率問題,需添加導電金屬造成無法生產高純度靶材。

解決方案：更換我司製程-拉晶矽旋轉靶-提昇靶材各項指標 ~高純度/高密度/高導電率/低氧含量
 

• 矽靶生產規範說明：

註：更換我司靶材，客戶端-良率及稼動率明顯提昇。

• 我司一體成型旋轉矽靶，使用後狀況：

表面光亮，無間距之毒化長瘤現象

旋轉靶有別於平面靶，使用率可達70~80%，成膜速度較快，另外還有回鍍少、異常放電少與安定性高等優點。本公司可量產供應顯示器、觸控面板及節能玻璃產業所需的相關旋轉靶材，包含高純度鋁靶。

如果未列出您所需的濺鍍靶材或需求更多資訊，請聯繫我們。

旋轉及平面-金屬及陶瓷靶材：

• 旋轉濺鍍靶材
• 接合濺鍍靶材
• 金屬濺鍍靶材
• 陶瓷濺鍍靶材